研究環境

居室：教育実験研究棟312号館
実験室：2号館100/102号室他
• スパッタ装置（IZU-IMI330, Ulvac/IZUMI Tech Co., Ltd.）
  
  

  ターゲット：
  2インチ、ターゲット-基板：150mm

• スパッタ装置（ES-350SU, EIKO）
  
  

  ターゲット：
  80 mm、ターゲット-基板：110mm

• MBE装置-1（EIKO）
  

  ソース：C, Si, Ge

• MBE装置-2（EIKO）
  

  ソース：Si, Ge

• 蒸着装置（SVC-770TM SG/SVC-7PS 80, SANYU ELECTRON）
  
  

  蒸着源：Au, Al

• XRD（SmartLab, RIGAKU）
  
  

  Cu Kα radiation

• PL/Raman（HORIBA）
  
  
• RTA（MILA-5000, Ulvac）
  
  
• 電気炉-1
• 電気炉-2
• 低温プローバー（カスタム）
• プローブステーション（カスタム）
• AFM（INNOVA, BRUKER）
  
  
• 明視野/蛍光顕微鏡（BX51, Olympus）
• 紫外可視分光装置（UV-1800, Shimadzu）
• 超純水製造装置（Direct-Q UV, Merck Millipore）
• マイクロフローチップ内起電力計測システム（自作）
• ハイスピードカメラ
• スピンコーター
• その他計測機器、電源等
  

  直流電源、高周波電源、デジタルマルチメーター、ソースメーター、半導体パラメータアナライザー、
  チラー、グローブボックス、温度制御システム、温湿制御器、クール/ホットプレート、超音波洗浄器、
  恒温槽、シリンジポンプ、デシケータなど。